Rusya, yerli aşırı ultraviyole (EUV) litografi cihazları için uzun vadeli bir yol haritası sundu. Proje, 40 nm üretim teknolojisiyle başlayarak, 2037’ye kadar 10 nm altı üretimi hedefliyor.
Kaynak: DonanimHaber
DEVAMINI OKU: Rusya, EUV litografi ile çip üretimi yol haritasını paylaştı: Hedef 10 nm altı
