ABD'li şirketin geliştirdiği yeni çip üretim tekniği ASML'nin tekeline son verebilir

ABD’li girişim Substrate, EUV litografi sistemlerine göre daha yüksek performans ve düşük maliyet vadeden, yeni bir X-ışını litografi sistemi geliştiriyor.

Kaynak: DonanimHaber

DEVAMINI OKU: ABD'li şirketin geliştirdiği yeni çip üretim tekniği ASML'nin tekeline son verebilir

Bir yanıt yazın

E-posta adresiniz yayınlanmayacak. Gerekli alanlar * ile işaretlenmişlerdir